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钕铁硼电镀技术如何改进

作者:admin 来源: 发布日期:2021.04.20 10:15
  
鑫磊磁电小编认为现行钕铁硼电镀生产技术,基本适应了市场需求,满足了大部分产品的要求,但其中一些工艺本身存在的缺点,既限制了磁体表面质量的稳定,又导致生产成本的上升,因此还有待进一步改进和提高。
 
钕铁硼电镀技术如何改进
 
 

 
    1,镀锌;
 
    对于三价铬钝化膜耐腐蚀性能差的问题,提出了解决或改进的思路。
 
    一是寻求一种杂质含量低的纯锌电镀工艺,可直接在钕铁硼基材上电镀;
 
    二、纯锌镀层工艺如不能直接在钕铁硼基体上镀锌,可采用氯化钾镀锌,或用浸锌打底后再镀纯锌。用这种思想进行初步的生产试验,结果与预期的比较一致。
 
    此外,还可以通过以下方法改善钕铁硼镀锌层的耐腐蚀性能。
 
    一、采用碱性镀锌工艺。在低孔隙率的条件下,碱性镀锌层的致密程度较高,这是钕铁硼镀锌层抗腐蚀的重要原因,同时,较少的有机杂质夹附在碱性镀锌层中,有利于形成三价铬钝化膜。
 
    而采用碱性镀锌工艺,不能直接在钕铁硼基体上进行施镀,需要对钕铁硼进行浸锌或氯化钾预镀。
 
    二、锌-镍合金镀层。锌-镍合金镀层对钕铁硼基体无明显阳极保护作用,但耐腐蚀性能极好,可作为钕铁硼镀锌的高端镀层。
 
    2、镀铜
 
    当前钕铁硼镀铜存在的一个主要问题是,镀铜液对磁体腐蚀严重,影响镀层结合力,腐蚀产物会污染镀铜液,所以对镍底层的质量(厚度、包覆能力和无漏镀等)要求很高。
 
    由于钕铁硼的特殊性,寻找更稳定的络合剂和开发新的无氰碱镀铜工艺是解决或改善该问题的关键。
 
    新的无氰碱铜工艺采用了一种与Cu2+络合能力强的络合剂,与钕铁硼基体没有置换反应,可接受δ为1~2μm的镍底层,且始终保持良好的结合力。
 
    采用冲击电流法,可在钕铁硼磁体表面直接镀铜,且镀层结合力好。
 
    经鑫磊磁电小编一年多的生产实践证明,无氰碱性镀铜新工艺是一种非常适合于钕铁硼电镀生产的镀铜法。