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钕铁硼怎么电镀镍铜

作者:admin 来源: 发布日期:2021.01.05 05:33 点击数:
摘要:鑫磊磁电小编讲下 钕铁硼 电镀镍铜的技术。 镀镍 当前钕铁硼镀镍普遍采用镍/铜/镍复合镀层体系。 预镀镍的目的是为后续镀铜提供一层正向、结构致密的底镀,确保后续铜正常施镀,防止基体被铜液腐蚀,确保镀层与基体的结合力及深镀能力等。 预镀铜具有良好的结合力和深镀性能,但由于预镀铜属于络合型镀液,且溶液电流效率低,不能在松散多孔的钕铁硼基体上得到连续合格的铜镀层,因此很难在钕铁硼基体上打底。 钕铁硼预镀镍多采用瓦特型镀镍工艺,适量使用半光亮镍添加剂,其目的不是追求亮度,而是利用阴极电流密度大,有利于镀层快速沉积。 瓦特型镍镀液也属于简单盐镀液的类型,由于需要在钕铁硼基体上直接施镀,对镀液、辊筒和操作等方面的要求和钕铁硼镀锌的要求差不多。 一般而言,钕铁硼件镍层的平均厚度应不少于4~...
  
鑫磊磁电小编讲下钕铁硼电镀镍铜的技术。
钕铁硼怎么电镀镍铜
镀镍 
当前钕铁硼镀镍普遍采用镍/铜/镍复合镀层体系。
预镀镍的目的是为后续镀铜提供一层正向、结构致密的底镀,确保后续铜正常施镀,防止基体被铜液腐蚀,确保镀层与基体的结合力及深镀能力等。
预镀铜具有良好的结合力和深镀性能,但由于预镀铜属于络合型镀液,且溶液电流效率低,不能在松散多孔的钕铁硼基体上得到连续合格的铜镀层,因此很难在钕铁硼基体上打底。
钕铁硼预镀镍多采用瓦特型镀镍工艺,适量使用半光亮镍添加剂,其目的不是追求亮度,而是利用阴极电流密度大,有利于镀层快速沉积。
瓦特型镍镀液也属于简单盐镀液的类型,由于需要在钕铁硼基体上直接施镀,对镀液、辊筒和操作等方面的要求和钕铁硼镀锌的要求差不多。
一般而言,钕铁硼件镍层的平均厚度应不少于4~5μm,以确保在低电流密度区域内充分覆盖镀层,防止后续镀铜液对基体的腐蚀。
镀铜
钕铁硼件镀铜指预镀镍与面层镍层之间的中间镀铜,其目的是要依靠铜层来增加镀层的总厚度,从而降低面镍层的厚度。
镍-铜-镍复合镀铜工艺在钕铁硼件上不稳定是其主要缺陷。
业界一致认为,电镀铜采用氰化工艺,镀液稳定,抗污染能力强,深镀性好,镀层光亮均匀,柔软,受力低,各方面性能均衡稳定。
但是,氰化物属于剧毒物质,国家对其管理和使用有严格的限制,目前只有少数厂家采用此工艺。
酸镀铜工艺对预镀层要求极高,稍加控制不好就会导致钕铁硼基体腐蚀,而且酸性镀铜镀半光亮镍打底结合力差,而钕铁硼一般采用半光亮镍打底,因此在当前钕铁硼镀镍/铜/镍体系中,不建议采用滚镀铜工艺。
鑫磊磁电小编了解到钕铁硼镀铜目前主要采用焦磷酸盐镀铜工艺,其次是柠檬酸盐镀铜工艺。两种工艺均对镀层质量有较高要求,否则就会产生置换铜现象,影响镀层结合力,污染镀液。在生产中,钕铁硼滚镀焦磷酸铜的溶液的稳定性较差,说明该钕铁硼基体逐渐被镀液腐蚀,产品被镀液污染。

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